鍛造廠超(chao)(chao)純(chun)水(shui)(shui)設備系統及廢水(shui)(shui)處理系統匯集(ji)了當前水(shui)(shui)處理技術(shu)的(de)(de)工(gong)藝和(he)設備，如超(chao)(chao)濾，納濾，微濾，反滲透(tou)，膜脫氣電(dian)去離(li)(li)(li)子(zi)(EDI)等，其中(zhong)EDI裝置在整個超(chao)(chao)純(chun)水(shui)(shui)制備系統工(gong)程中(zhong)一關鍵設備，它巧妙(miao)的(de)(de)將電(dian)滲析和(he)離(li)(li)(li)子(zi)交換技術(shu)相結合(he)，利(li)用(yong)兩(liang)端電(dian)極高(gao)壓使水(shui)(shui)，中(zhong)帶電(dian)離(li)(li)(li)子(zi)移動，并配(pei)合(he)離(li)(li)(li)子(zi)交換樹(shu)脂及選(xuan)擇性(xing)樹(shu)脂膜以加速離(li)(li)(li)子(zi)移動去除(chu)，鍛造用(yong)超(chao)(chao)純(chun)水(shui)(shui)設備從而達到水(shui)(shui)純(chun)化的(de)(de)目的(de)(de)。

　　鍛造廠用超(chao)純水設備(bei)系統化學清洗準則(ze)

　　1、裝置的產水(shui)量比(bi)初次(ci)或上一次(ci)清洗(xi)后(hou)下降5～10℅時。

　　2、裝置的(de)鹽透過率(lv)比初次或上一次清洗后提(ti)高一倍時。

　　3、裝置各段(duan)的壓力(li)差(cha)或(huo)(huo)壓力(li)差(cha)的差(cha)值為初次(ci)(ci)或(huo)(huo)上一次(ci)(ci)清洗后的1～1.5倍時。

　　4、裝置(zhi)運(yun)行3-4個月(yue)時。

　　5、裝置在長期(qi)停止運(yun)行前用NaHSO3溶(rong)液保(bao)護。

　　鍛(duan)造廠廢水處理(li)設備系(xi)統功能：

　　上位操作站：

　　主(zhu)要完成(cheng)系統(tong)中各操作站的(de)監(jian)視參(can)數設(she)(she)置設(she)(she)備(bei)運(yun)行等操作功能，具有清晰的(de)生產設(she)(she)備(bei)運(yun)行情況，可(ke)(ke)在流程上對現場(chang)設(she)(she)備(bei)進行遠(yuan)方手動操作，實現遠(yuan)程控制。生產過(guo)程的(de)電(dian)(dian)阻率及(ji)電(dian)(dian)導率可(ke)(ke)以在線顯示。

　　可編程控制器PLC：

　　各控制(zhi)站(zhan)都采用以微(wei)處(chu)理(li)器(qi)為基礎的(de)可(ke)(ke)編程(cheng)控制(zhi)器(qi)PLC，它(ta)具(ju)有高(gao)可(ke)(ke)靠性，編程(cheng)方(fang)便(bian)，易于使(shi)用，與其它(ta)裝置(zhi)配置(zhi)方(fang)便(bian)等(deng)特點，各生(sheng)產過(guo)程(cheng)的(de)程(cheng)序、數據都存儲PLC的(de)CPU里獨立運(yun)行，工作人(ren)員可(ke)(ke)通過(guo)計(ji)算(suan)機操(cao)作站(zhan)來監視(shi)其運(yun)行。PLC具(ju)有很強的(de)運(yun)算(suan)功能，能完成復雜的(de)操(cao)作，可(ke)(ke)配合操(cao)作員通過(guo)對(dui)整(zheng)個生(sheng)產過(guo)程(cheng)的(de)運(yun)行參數和狀態進行集中監控，以實現對(dui)整(zheng)個系統(tong)的(de)程(cheng)控，運(yun)行，遠操(cao)等(deng)過(guo)程(cheng)。各控制(zhi)執行機構均配制(zhi)行程(cheng)開關。

　　電(dian)導率、電(dian)阻率、等顯示：

　　現場配備電(dian)導率儀表，電(dian)阻(zu)率儀表，以便(bian)重要電(dian)導率、電(dian)阻(zu)率等指標(biao)能夠在水(shui)處理車間和(he)控制(zhi)室同時(shi)顯示(shi)。

　　鍛造廠超純水設(she)備系(xi)統設(she)計原則

　　1、工(gong)程以投資省，運轉費用(yong)低，占地面(mian)積小為原則。

　　2、設備(bei)運行穩(wen)定可靠，維護(hu)簡單、操作(zuo)方便。

　　3、污(wu)(wu)水處理系(xi)統不(bu)産(chan)生二次污(wu)(wu)染(ran)源污(wu)(wu)染(ran)環境。

　　4、控(kong)制管理按處理工藝過程(cheng)要求盡量考慮自控(kong)，降低多(duo)晶(jing)硅用(yong)超純水(shui)設備150T/H運(yun)行操作的勞動強度(du)。